Photoresist

Der hochauflösende lichtempflindliche Photopolymer Resist kann mit UV-Licht und einer gedruckten Vorlage gehärtet werden.

Anwendung:   
Kann mit UV-Licht strukturiert werden. Die nicht belichteten Stellen werden ausgewaschen und können geätzt werden.

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4744999870720
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Set lichtempfindlicher UV Photolack R1000 & Entwickler
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SR1000
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Photoresist flüssig R1000
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R1000
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Entwickler
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