Photopolymerfilm 50 Mikron hochauflösend für verschiedene Anwendungen:
Elektronik: als Photoresist für Platinen - in der Druckgrafik: Erstellung von Fotoradierung | Heliogravüre und Photopolymer Radierung oder zur Verwendung als Ätzgrund - als Abdeckmaske beim Sandstrahlen - im Modellbau: Durchätzung von Messing, Neusilber und Kupferblech - für Golschmiede und Juweliere: Ätzen von Schmuck
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