Photopolymerfilm | Photoresist | Ätzgründe

Photopolymerfilm:   

Mit einer Dicke von 50 μ und dem exzellenten Auflösungsvermögen ist dieser Photoresist besonders gut für die Photopolymer Radierung im künstlerischen Tiefdruck und in der Ätztechnik geeignet. Ebenso lassen sich Schaltkreise auf Platinen, Motive auf Schmuck und Durchätzungen im Modellbau aufgrund der Säurebeständigkeit des Films mit wenig Aufwand erzeugen.

Mit einer extrem kurzen Belichtungs- und Entwicklungszeit ist präzises und schnelles Arbeiten mit diesem Photoresist möglich.

Photoresist flüssig :

Ein lichtempfindlicher 1-Komponenten Photolack auf Photopolymer Basis. Der Resist wird mit einem Gummi-Roller auf das zu ätzende Metall aufgetragen, mittels einer UV-Quelle belichtet und anschliessend entwickelt. Durch die geringere Schichtdicke lassen sich feinere Strukturen und Linien, selbst feinste Punktraster bis 2880 dpi, ätzen, als dies beim Photopolymerfilm der Fall ist.

Der Photoresist ist sehr ergiebig und mit etwas Übung einfach zu handhaben.

Kolophonium:

Kolophonium Harz zur Bestäubung von Klichees für Aquatinta, als Löthilfe für Anwendungen in der Elektronik und zur Herstellung von Büttenpapier. Erhältlich in Stücken oder als Pulver.